| 摘要 |
本发明提供一种具均匀反应性正型光阻剂组成物，光阻剂涂布后分别在不同制程步骤进行热交联反应及光分解反应而达到图形线路。此一新型之光阻剂系由一多成份树脂组合物、一光酸产生剂及一反应性单体所组成。当光阻剂在软烤时，该反应性单体系与该多成份树脂组合物先形成一具网状结构之聚合物。接着光阻剂在曝光光源照射下，所产生之酸会使光阻剂中多成分组成树脂分别进行化学增幅型树脂去保护基反应及网状结构树脂之光分解反应。因此，本发明所述之正型光阻剂由于其较佳之硷性对比能力及均匀的反应性，在微影制程时可得到较佳的光阻深宽比及解析度。 |
