模版形成方法

摘要

一种模版形成方法，其系用以形成一模版，且包括下列步骤：于一基版上涂布一光阻层；于光阻层上形成一图案化之半遮蔽层(patterned semi-blocked layer)；以一光束曝光光阻层，其中半遮蔽层系削减光束之能量以部分遮蔽此光束；显影光阻层；以及朝光阻层的方向溅镀一金属层。