半导体晶圆之高效率清洗用组成物及方法

摘要

一种组成物，包括超临界流体及选自氟物种、及第一及／或第二胺之至少一添加剂，且选择性地具有共溶剂、低k材料侵蚀抑制剂及／或表面活性剂。此组成物具有清洗半导体晶圆，以自其移除灰化后残留物之特殊效用。