发明名称 MOS型半导体装置
摘要 一种半导体装置具备:一主动区域,即在半导体基板上用元件隔离区域隔离的MOSFET之主动区域;及一闸电极,通过该主动区域上设置一支闸电极;以及源极接触部与汲极接触部,设在该闸电极两侧,与该主动区域之表面接触。该闸电极,由该源极接触部及/或汲极接触部的位置起,沿闸电极方向随其距离越远,该闸极长度分阶段或连续的变小。
申请公布号 TW200505030 申请公布日期 2005.02.01
申请号 TW093113909 申请日期 2004.05.18
申请人 东芝股份有限公司 发明人 大石周
分类号 H01L29/80 主分类号 H01L29/80
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 日本