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发明名称
MOS型半导体装置
摘要
一种半导体装置具备:一主动区域,即在半导体基板上用元件隔离区域隔离的MOSFET之主动区域;及一闸电极,通过该主动区域上设置一支闸电极;以及源极接触部与汲极接触部,设在该闸电极两侧,与该主动区域之表面接触。该闸电极,由该源极接触部及/或汲极接触部的位置起,沿闸电极方向随其距离越远,该闸极长度分阶段或连续的变小。
申请公布号
TW200505030
申请公布日期
2005.02.01
申请号
TW093113909
申请日期
2004.05.18
申请人
东芝股份有限公司
发明人
大石周
分类号
H01L29/80
主分类号
H01L29/80
代理机构
代理人
詹铭文;萧锡清
主权项
地址
日本
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