发明名称 记忆胞元具多浮动闸极非挥发记忆体中闸介电之制造
摘要 在具有二浮动闸极之非挥发性记忆胞元的制造过程中,一或多周边电晶体闸极系被形成自与选择闸极相同之层(140),这些周边电晶体之闸极介电质(130)以及选择闸极之闸极介电质(130)系同时形成。在具有包括二浮动闸极之一记忆胞元之非挥发性记忆体中,该周边电晶体之该闸极介电质(130)以及该选择闸极(140)之闸极介电质(130)系具有相同之厚度。
申请公布号 TW200505011 申请公布日期 2005.02.01
申请号 TW093118363 申请日期 2004.06.24
申请人 台湾茂矽电子股份有限公司 发明人 丁逸
分类号 H01L27/115 主分类号 H01L27/115
代理机构 代理人 蔡清福
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行路十九号