发明名称 具有多重浮置闸极非挥发性记忆胞之介电质之制造
摘要 一种记忆胞具有选取闸极(select gate)以及至少二个浮置闸极(floating gate),以一个高温氧化制程,对于浮置闸极形成闸极介电层,也同时对于选取闸极的表面上形成介电层。在前述选取闸极表面上的介电层厚度,系被选取闸极中的掺质浓度所控制。
申请公布号 TW200504939 申请公布日期 2005.02.01
申请号 TW093119664 申请日期 2004.06.30
申请人 台湾茂矽电子股份有限公司 发明人 丁逸
分类号 H01L21/8239 主分类号 H01L21/8239
代理机构 代理人 李长铭
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行路十九号
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