发明名称 | 形成非挥发性记忆胞的方法及有此记忆胞之记忆阵列 | ||
摘要 | 一种形成非挥发性记忆胞的方法包括于一组成叠层上沈积一氧化层,且组成叠层具有一介电层、介电层上有一第一导电层。之后,去除部分氧化层的上部以暴露介电层,再去除介电层以及剩余之氧化层的上部,以使氧化层与第一导电层的上表面几乎是平的。接着,在第一导电层及氧化层之上表面上形成一第二导电层。于一基底表面中形成包含间隔且平行的多个位元线的一非挥发性记忆阵列。在位元线上之基底表面上有包含一电子捕捉层之数个堆叠层。在堆叠层上有数个间隔的字元线。而字元线系互相平行且垂直于位元线。 | ||
申请公布号 | TW200504938 | 申请公布日期 | 2005.02.01 |
申请号 | TW093100644 | 申请日期 | 2004.01.12 |
申请人 | 旺宏电子股份有限公司 | 发明人 | 许富雄;刘振钦;黄兰婷 |
分类号 | H01L21/8239 | 主分类号 | H01L21/8239 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行路十六号 |