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发明名称 用于深紫外光石印法之光阻组合物
摘要 本发明系关于一种光阻组合物，其包含光酸产生剂及至少一种包含至少一个如结构1所述单位之聚合物，093103343-p01.bmp本发明也关于一种影像化本发明光阻组合物之方法及一种在有机硷的存在下制造该聚合物的方法。093103343-p01.bmp
申请公布号 TW200504457 申请公布日期 2005.02.01
申请号 TW093103343 申请日期 2004.02.12
申请人 克来里恩国际公司 发明人 雷夫R 达麦尔;沙卡摩力 雷;法蓝西司M 奥林翰
分类号 G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 瑞士
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