辐射加热源

摘要

一种用于加热一个像是一个半导体晶圆之工件的辐射加热源，其系包括有被配置在一个阵列之中的复数个辐射加热元件，而该阵列系大体上对着一个来源的中心主轴而大体上同中心者。一个反射器系具有一个界定着一个穴部或是通道的反射表面，该穴部或是通道系含有该等加热元件，前述的反射器系包含有在该中心主轴周围延伸并且被加工以将该等加热元件所发射出之辐射能量反射到一个被晶圆所占据之区域的壁部。该等通道反射表面包含有一个平面以及／或一个圆柱以及／或一个圆锥以及／或一个对于前述加热元件为凸面之回转弯曲表面的至少一部份，该回转弯曲表面系与二个或多个相邻加热元件接界或是横跨二个或多个相邻加热元件。