发明名称 化学上放大之正型阻体组成物
摘要 本发明系关于化学上放大之正型阻体组成物,其适合供使用于利用ArF准分子雷射之曝光程序中且能形成显示高亲水性之阻体涂层;优良黏附至基体上且其阻体性能特性令人满意;及包含一种树脂(X)其具有自(甲基)丙烯酸二羟基-1-金刚烷基酯所衍生之聚合单位(a)及自(甲基)丙烯酸2-烷基-2-金刚烷基酯所衍生之聚合单位(b)及就其本身而论,它不溶或略可溶于硷中但是由于酸的作用而变成可溶于硷中;及一种酸产生剂(Y)。
申请公布号 TWI227378 申请公布日期 2005.02.01
申请号 TW089127065 申请日期 2000.12.18
申请人 住友化学工业股份有限公司 发明人 上谷保则;藤岛浩晃;高田佳幸
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;何秋远 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 1.一种化学上放大之正型阻体组成物,包含:树脂(X),其具有自(甲基)丙烯酸二羟基-1-金刚烷基酯所衍生之4~70mol%聚合单位(a)及自(甲基)丙烯酸2-烷基-2-金刚烷基酯所衍生之30~80mol%聚合单位(b),上述数量系基于树脂之总单位,其中,自(甲基)丙烯酸二羟基-1-金刚烷基酯所衍生之聚合单位(a)经由下式(I)代表:其中R1代表氢或甲基,且自(甲基)丙烯酸2-烷基-2-金刚烷基酯所衍生之聚合单位(b)可经由下列(II)代表:其中R2代表氢或甲基而R3代表C1-6烷基,且该树脂,就其本身而论系不溶或略可溶于硷中但是由于酸的作用,变成可溶于硷中;及一种酸产生剂(Y)。2.如申请专利范围第1项之阻体组成物,其中自(甲基)丙烯酸二羟基-1-金刚烷基酯所衍生之聚合单位(a)是自(甲基)丙烯酸3,5-二羟基-1-金刚烷基酯所衍生之一个单位。3.如申请专利范围第1项之阻体组成物,其中树脂(X)另外具有自(甲基)丙烯醯氧基--丁内酯所衍生之聚合单位,其中内酯环可使用C1-6烷基及/或自马来酸酐所衍生之聚合单位视需要予以取代。4.如申请专利范围第1项之阻体组成物,它另外包含一种胺作为骤冷剂。
地址 日本