发明名称 正型阻体组成物
摘要 目的:提供一种高感度化学增幅型正型光阻体组成物,改进图案之边缘粗糙,而得优良之阻体图案轮廓。解决手段:提供一种正型阻体组成物,包括一种树脂,在含有特定脂环烃的部份构造当中,至少其一含有受保护硷溶性基,或(C)主链具有特定环构造,相对于构成树脂的重复构造单位之单体含量,利用GPC占全图案面积5%以下的酸加以作用,提高对硷显像液的溶解速度的树脂,以及(B)一种化合物,利用活性光线或放射线照射而发生酸者。
申请公布号 TWI227377 申请公布日期 2005.02.01
申请号 TW089120779 申请日期 2000.10.05
申请人 富士照相软片股份有限公司 发明人 佐藤健一郎;儿玉邦彦;青合利明
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼;何秋远 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项 1.一种正型阻体组成物,包括:(A)树脂,在含有下列通式(pⅠ)及通式(pⅡ)所示脂环烃之部份构造当中,含有至少有一受到保护之硷溶性基,且单体成份含量在凝胶透过层析(GPC)的全图案面积0.05-5%,利用酸的作用对硷显像液增加溶解速度,(式中R11代表甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、次丁基,Z代表与碳原子形成由金刚烷基、环戊基、环己基、原冰片烷基、三环癸基及四环十二烷基所选出、未经取代或经碳数1~4的直链或分枝的烷基所取代之脂环烃基之必要原子团;R12-R14分别代表直链或支链C1-C4烷基,或由金刚烷基、环戊基、环己基、原冰片烷基、三环癸基及四环十二烷基所选出、未经取代或经碳数1-4的直链或分枝的烷基所取代之脂环烃基,惟R12-R14当中至少其一为脂环烃;及(B)经活性光线或放射线照射会发生酸之化合物。2.如申请专利范围第1项之正型阻体组成物,其中该(A)树脂,系将含有单体和自由基引发剂之反应溶液,滴加于含反应溶剂或单体之反应溶液,进行聚合反应所得之树脂者。3.如申请专利范围第1项之正型阻体组成物,其中该(A)树脂,系将自由基引发剂分成30分钟至8小时,投入于含单体之反应溶液,进行聚合反应而得者。4.如申请专利范围第1至3项中任一项之正型阻体组成物,其中该(A)树脂,系将含有单体和自由基引发剂之反应溶液加热进行聚合反应后,再添加自由基引发剂,再加热进行聚合反应所得之树脂者。5.如申请专利范围第1至3项中任一项之正型阻体组成物,其中该(A)树脂,系在聚合反应完成后,投入选自水/醇类、水/醚类、水/酮类、水/醯胺类、水/酯类或内酯类、水/类至少一种之溶液,以粉体回收之树脂者。6.一种正型阻体组成物,其包括:(C)利用酸的作用增加对硷显像液的溶解速度之树脂,(i)具有选自下列通式(Ia)和通式(Ib)所示重复构造单位群之至少一种重复构造单位,和下列通式(Ⅱ-A)所示构造单位,(ii)具有利用酸的作用而分解之基,因而(iii)构成树脂的重复构造单位之相对应单体含量,在凝集透过层析之全图案面积0.05-5%,及(B)经活性光线或放射线照射可发生酸之化合物者,在式(Ia)中:R51和R52分别代表C1-C5烷基或下列-Y5基;X5代表氧原子;A5代表单键或未经取代或经甲基取代的亚甲基或伸乙基;-Y5基:其中R71-R80代表氢原子,a和b代表1;在式(Ib)中:Z7代表-O-;在式(Ⅱ-A)中:R63-R66分别代表氢原子、-COOH 、-COOR55(R55表示未经取代或经乙醯基取代的C1-C4烷基或上述-Y5基)、或-C(=O)-X5-A5-R67,n代表0或1,其中X5、A5意义分别如上述,R67代表-COOH、-COOR55(R55意义如上述),或代表上述-Y5基者。7.如申请专利范围第6项之正型阻体组成物,其中上述(C)树脂,系由包含构成该树脂之重复构造单位相当的单体,和自由基引发剂之溶液,加热进行聚合反应后,再添加自由基引发剂,又加热进行聚合反应所得聚合物者。8.如申请专利范围第6项之正型阻体组成物,其中上述(C)树脂,系将聚合反应结束后之聚合反应液,投入于选自水、醇类、醚类、酮类、醯胺类、酯类和内酯类、类、烃类;及其混合溶剂之至少一种溶剂内,析出聚化合物后,呈粉体回收之聚合物者。
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