| 主权项 |
1.一种光学扫描装置,用于以第一模式扫描第一型式的记录载体、并以第二模式扫描第二型式的记录载体,该第一型式的记录载体具有第一资讯层、及第一厚度的第一透明层,第二型式的记录载体具有第二资讯层及第二厚度的第二透明层,该第一厚度与第二厚度不同;该光学扫描装置包括一用于产生至少一辐射光束之辐射源、及一物镜系统,该物镜系统用于在第一共轭组操作以在第一模式之第一资讯层形成一焦点、并可在一不同之第二共轭组中操作,以在第二模式中的第二资讯层形成一焦点,其特征在于该光学扫描装置包括一光学元件,该光学元件设于自辐射源到物镜系统的第二模式辐射路径中,藉以在辐射光束中导入球面像差,以减少辐射光束之慧形像差。2.一种光学扫描装置,其用于扫描一具有一资讯层之记录载体,包括一用于产生非准直辐射光束之辐射源、及用于将非准直辐射光束收歛到资讯层上一焦点之物镜系统,其特征在于该光学扫描装置包括一光学元件,该光学元件设于自辐射源到物镜系统的辐射路径中,藉以在该非准直辐射光束中导入球面像差,该球面像差具有一符号,其与平球面透镜的球面像差的符号相反。3.如申请专利范围第1项之光学扫描装置,其中该物镜导入球面像差,而该物镜的球面像差与该光学元件具有相反的符号。4.如申请专利范围第1项之光学扫描装置,其中该光学元件的球面像差具有一符号,其与一平球面透镜的球面像差符号相反。5.如申请专利范围第1项之光学扫描装置,其中该光学元件为一正透镜、一光栅或一具有一位置因素光路的薄层。6.如申请专利范围第1项之光学扫描装置,其中在第一模式及第二模式中,一第一准直透镜设于该辐射源与物镜系统之间的辐射路径上,而该用来导入球面像差之光学元件为一第二准直透镜,该第二准直透镜仅设于该第二棤式中之辐射源与物镜系统之间的辐射路径上。7.如申请专利范围第1项之光学扫描装置,其中该光学元件导入一球面像差W40(均方根値),其量大致上等于其中W31(均方根値)为慧形像差预定量,该慧形像差由物镜系统导入,在物镜系统于第二模式中位移一距离x时会减少,x系物镜系统自一中心位置沿垂直于物镜系统光轴的方向移动的位移,R系物镜入射光瞳的半径。其中W31表示由物镜所产生欲减少的慧形像差,x系物镜的位移,R系物镜入射光瞳(entrance pupil)的半径。8.如申请专利范围第7项之光学扫描装置,其中辐射光束在入射光瞳的一平面上具有一大于R之半径R1,且该光学元件在辐射光束中导入球面像差,该球面像差之量大致上等于图式简单说明:图1揭示本发明之一扫描装置。图2揭示一像差图形表示,作为一物镜透镜位移的函数。图3及4揭示本发明进一步扫描装置的实施例。 |
