| 主权项 |
1.一种电浆处理装置,用以将射频功率供应至一处理室中以产生电浆,从而处理需利用该电浆处理之一物件;其中该处理室具有一顶板,其与需处理之物件相对而置,其间为用以产生该电浆之一区域的媒体;且一射频天线置放于该处理室之内部及外部,使得该射频天线缠绕该顶板。2.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其中于该处理室中至少置放一金属基射频天线,以提供一线性及/或弯曲导线。3.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其中置放于该处理室中之射频天线上覆盖有一绝缘材料,使该射频天线不与该电浆直接接触。4.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其中置放于该处理室中之射频天线的长度不小于(n/2-1/4)0(其中0系该射频功率之波长,而n系一整数)且不大于(n/2+1/4)0。5.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其中置放于该处理室中之射频天线的厚度或直径随着该射频功率的传播方向而改变。6.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其中该射频天线系置放于该处理室中,使该射频天线配置之密度相对于该处理室之中央部分及周边部分而改变,且/或相对于该处理室的高度方向而改变。7.如申请专利范围第3项之电浆处理装置,其中一绝缘流体在置放于该处理室中之射频天线与该绝缘材料之间循环。8.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其中该顶板与置放于该处理室中之射频天线之间的距离可变化。9.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其中于该顶板之至少一位置处置放一测量元件,以便监视该产生之电浆的状态。10.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其中该顶板具有复数个孔隙,用以流动需供应至该处理室之一气体。11.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其中于该处理室中置放用以支撑需处理之物件的一吊线板,且一偏压可施加于该吊线板。12.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其中该处理室中之接地线的至少一部分具有一开口,且该电浆系因微波电场从该开口向该接地线之外部辐射而产生。13.一种电浆处理装置,用以将射频功率供应至一处理室中以产生电浆,从而处理需利用该电浆处理之一物件;其中该处理室具有一顶板,其与需处理之物件相对而置,其间为用以产生该电浆之一区域的媒体;且该顶板包含一金属基或矽基材料。14.如申请专利范围第13项之电浆处理装置,其中于该处理室中至少置放一金属基射频天线,以提供一线性及/或弯曲导线。15.如申请专利范围第14项之电浆处理装置,其中置放于该处理室中之射频天线上覆盖有一绝缘材料,使该射频天线不与该电浆直接接触。16.如申请专利范围第14项之电浆处理装置,其中置放于该处理室中之射频天线的长度不小于(n/2-1/4)0(其中0系该射频功率之波长,而n系一整数)且不大于(n/2+1/4)0。17.如申请专利范围第14项之电浆处理装置,其中置放于该处理室中之射频天线的厚度或直径随着该射频功率的传播方向而改变。18.如申请专利范围第14项之电浆处理装置,其中该射频天线系置放于该处理室中,使该射频天线配置之密度相对于该处理室之中央部分及周边部分而改变,且/或相对于该处理室的高度方向而改变。19.如申请专利范围第15项之电浆处理装置,其中一绝缘流体在置放于该处理室中之射频天线与该绝缘材料之间循环。20.如申请专利范围第14项之电浆处理装置,其中该顶板与置放于该处理室中之射频天线之间的距离可变化。21.如申请专利范围第14项之电浆处理装置,其中于该顶板之至少一位置处置放一测量元件,以便监视该产生之电浆的状态。22.如申请专利范围第14项之电浆处理装置,其中该顶板具有复数个孔隙,用以流动需供应至该处理室之一气体。23.如申请专利范围第14项之电浆处理装置,其中于该处理室中置放用以支撑需处理之物件的一吊线板,且一偏压可施加于该吊线板。24.如申请专利范围第14项之电浆处理装置,其中该处理室中之接地线的至少一部分具有一开口,且该电浆系因微波电场从该开口向该接地线之外部辐射而产生。图式简单说明:图1A为显示依据本发明之电浆处理装置的一项具体实施例之示意透视图。图1B为显示基于图1A所示之电浆处理装置中的天线配置之一电流方向及一电场方向的示意断面图。图2为显示基于另一天线配置之一电流方向及一电场方向的示意断面图。图3为显示藉由室壁之一以「悬臂」式支撑之射频天线的一项具体实施例之示意透视图。图4为显示藉由二室壁以「悬臂」式支撑之射频天线的一项具体实施例之示意透视图。图5为显示电浆处理装置的一项范例之示意透视图,其中该顶板的形状已得到改变。图6为显示电浆处理装置的另一项范例之示意透视图,其中该顶板的形状已得到改变。图7为显示电浆处理装置的另一项范例之示意透视图,其中该顶板的形状已得到改变。图8为显示电浆处理装置的另一项范例之示意透视图,其中该顶板的形状已得到改变。图9为显示依据本发明之电浆处理装置的一项具体实施例之示意断面图,其中于一射频传送线之端子上提供一无反射终止器。图10为显示依据本发明之电浆处理装置的一项具体实施例之示意断面图,其中于一射频传送线与一天线之间提供一电容可变调谐器。图11为显示依据本发明之电浆处理装置的另一项具体实施例之示意断面图,其中于一射频传送线与一天线之间提供一电容可变调谐器。图12为显示依据本发明之电浆处理装置的另一项具体实施例之示意断面图,其中于一射频传送线与一天线之间提供一电容可变调谐器。图13为显示依据本发明之电浆处理装置的另一项具体实施例之示意断面图,其中于一射频传送线与一天线之间提供一电容可变调谐器。图14为显示依据本发明之电浆处理装置的一项具体实施例之部分示意断面图,其中于该处理室中提供一光电感应器。图15为显示依据本发明之电浆处理装置的一项具体实施例之部分示意断面图,其中于该处理室中之一接地线上提供一开口。图16为显示依据本发明之电浆处理装置的另一项具体实施例之部分示意断面图,其中于该处理室中之一接地线上提供一开口。图17为显示依据本发明之电浆处理装置的一项具体实施例之示意断面图。图18A为显示如图17中所示之依据本发明之电浆处理装置的一项具体实施例之示意透视图。图18B为显示基于图18A所示之天线配置的一电流方向及一电场方向之示意断面图。 |
