| 主权项 |
1.一种光记录方法,乃属于在光透过性基板上针对具备记录层的光学记录媒体利用雷射束的照射形成记录标记的光学记录方法,其特征为:将与前述雷射束的相对移动方向的任意单位长度以及与此垂直的方向的任意单位宽度的虚拟记录单元,沿着前述移动方向连续的规定在前记录层;前述雷射束的照射功率是将清除功率、待机功率、为了形成前述记录标记的记录功率的至少3阶段按此顺序而变大地加以设定;将利用针对前述虚拟记录单元的前述记录功率的记录照射时间设定为5阶段以上;以前述清除功率从利用前述记录功率的照射结束的时间到经过所定时间的期间来照射前述虚拟记录单元,更以前述待机功率从利用该清除功率的照射结束的时间到开始利用前述记录功率的照射的期间来照射下一个前述虚拟记录单元,且藉由针对复数的前述虚拟记录单元,形成5阶段以上调制并照射利用前述记录功率的记录照射时间,形成至少5种大小不同的记录标记,根据相对于该虚拟记录单元时前述记录标记的面积比来调制光反射率,而对资讯进行多阶段记录。2.如申请专利范围第1项所记载的光记录方法,其中,前述记录层是经由前述记录功率照射雷射束而成为非晶质,同时采用藉由前述待机功率照射雷射束照射而成为结晶质的相变化记录层,就可针对前述虚拟记录单元重复进行多阶段记录。3.如申请专利范围第1项所记载的光记录方法,其中,利用前述清除功率的照射时间经常保持一定。4.如申请专利范围第2项所记载的光记录方法,其中,利用前述清除功率的照射时间经常保持一定。5.如申请专利范围第1~4项的任一项所记载的光记录方法,其中,设定成利用先行的前述记录功率的前述记录照射时间愈长利用前述待机功率的照射时间就愈短。6.如申请专利范围第5项所记载的光记录方法,其中,分配到虚拟记录单元的前述记录照射时间是在前述5阶段以上中至少最长时间的情形下,利用其后的前述待机功率的照射时间略设定为零。7.如申请专利范围第1~4项的任一项所记载的光记录方法,其中,于被记录在前述虚拟记录单元的记录标记,至少包括比前述雷射束的聚束光点尺寸小的记录标记。8.如申请专利范围第5项所记载的光记录方法,其中,于被记录在前述虚拟记录单元的记录标记,至少包括比前述雷射束的聚束光点尺寸小的记录标记。9.如申请专利范围第6项所记载的光记录方法,其中,于被记录在前述虚拟记录单元的记录标记,至少包括比前述雷射束的聚束光点尺寸小的记录标记。10.一种光记录媒体,乃属于在光透过性基板上具备有记录层,对该记录层照射雷射束而形成记录标记的光记录媒体,其特征为:利用申请专利范围第1项至第9项的任一项所记载的光记录方法,针对复数的前述虚拟记录单元形成5种以上大小不同的记录标记。图式简单说明:第1图是表示有关本发明的实施形态例的光学记录媒体的主要部分的一部分断面的立体图。第2图是表示对同一光学记录媒体利用雷射束来记录资讯的光学记录装置的方块图。第3图是表示包括在同一光学记录装置的照射指示装置的构成的方块图。第4图是表示利用同一光学记录装置在记录层形成记录标记时的该记录标记与虚拟记录单元及其光反射率的关系的模式图。第5图是表示利用同一光学记录装置在记录层形成记录标记时的雷射束照射的时间图的产生过程的线图。第6图是利用同光学记录装置在记录层形成记录标记时的雷射束照射的最终时间图。第7图是表示照射虚拟记录单元的雷射束为其他形状的略示立体图。第8图是放大表示事先记录本发明的光记录媒体的各种资讯的蛇行轨的模式图。第9图是表示同蛇行轨的蛇行轨周期与2値信号的关系的线图。第10图是表示记录本发明的光记录媒体的各种资讯的凸轨前置凹坑与2値信号的关系的模式图。第11图是表示记录本发明的光记录媒体的各种资讯而中途切开的蛇行轨的长度与2値信号关系的模式图。第12图是表示记录本发明的光记录媒体的各种资讯的虚拟记录单元与记录标记的模式图。 |
