排除光敏材料的排除单元,具有排除单元的涂布机,及具有该涂布机的光敏材料涂布装置

摘要

一种涂布装置，包括用于支撑一包含单元基板之母板的撑架、一用于在单元基板涂布感光材料之涂布机、一用于侦测杂质之侦测器、一用于由单元基板除去杂质之清除器、及一用于控制涂布机、侦测器与清除器之控制器。涂布机包括一内装光敏材料之本体，及用于自本体输入与输出光敏材料之入口与出口部位。出口部位之宽度为相同的于单元基板之宽度。侦测器被置放在涂布机之前端，以在涂布制程之前侦测杂质。清除器排除杂质。涂布机仅排除光敏材料在单元基板上。当发现杂质时，光敏材料之排除被中断。该涂布装置需要较少的光敏材料，且可更具效率。