发明名称 显微镜及试料观察方法
摘要 对于成为观察对象之半导体装置S,本发明系设置有:图像取得部1,用来进行半导体装置S之观察;和光学系2,包含有物镜20。另外,用以扩大半导体装置S之图像之固浸透镜(SIL)3系被设置成可在插入位置和光轴外的等待位置之间移动,其中该插入位置系被设置成包含从半导体装置S朝向物镜20之光轴,且与半导体装置S之表面密接。另外,在插入SIL 3时取得包含有来自SIL 3之反射光的图像,参照该图像,利用SIL驱动部30以调整SIL 3之插入位置。利用此种方式以实现可在半导体装置之微细构造解析等方面易于进行必要之试料之观察之半导体检查装置(显微镜)和半导体检查方法(试料观察方法)。
申请公布号 TW200504383 申请公布日期 2005.02.01
申请号 TW093107481 申请日期 2004.03.19
申请人 滨松赫德尼古斯股份有限公司 发明人 寺田浩敏;荒田育男
分类号 G02B21/00;G01N21/88;H01L21/66 主分类号 G02B21/00
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本