光学接近修正方法

摘要

本发明提供一种对光罩布局图进行光学接近修正的方法，其中该光罩布局图至少包含一光罩图案。该方法包含有下列步骤：收集一预定加入该光罩布局图中之一辅助图案的辅助图案修正偏差值，接着结合该辅助图案修正偏差值，进行一基准式光学接近修正，计算出该光罩图案需修正的目标修正偏差值，并依照计算结果对该光罩图案进行修正，输出一修正之光罩布局图，最后在该修正之光罩布局图中加入该辅助图案。