电解式遮罩铬膜之蚀刻制程方法

摘要

一种电解式遮罩铬膜之蚀刻制程方法，包含以下步骤：于基底上形成一铬膜材质之薄膜；于薄膜上形成图样光阻遮罩而构成一待蚀刻装置；将该待蚀刻装置沈置于一电解溶液；将该薄膜与一电源之正极电接触；将该电解溶液与该电源之负极电接触；实施电解反应；以及将该待蚀刻装置自该电解溶液中取出。