Verfahren zum Herstellen einer Kontaktschicht auf einem Halbleiterkörper,申请号CH19700016619-传众专利搜索

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发明名称	Verfahren zum Herstellen einer Kontaktschicht auf einem Halbleiterkörper
摘要
申请公布号	CH515615(A)	申请公布日期	1971.11.15
申请号	CH19700016619	申请日期	1970.11.09
申请人	SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT	发明人	WEISKE,WOLFGANG,DR.;BEDNORZ,KLAUS
分类号	H01L21/00;H01L21/288;(IPC1-7):H01L7/34	主分类号	H01L21/00
代理机构		代理人
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