Vorrichtung zur Inspektion eines Wafers

摘要

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Inspektion eines Wafers, umfassend zumindest eine Auflicht-Beleuchtungseinrichtung, die einen Beleuchtungs-Lichtstrahl abstrahlt, der schräg auf eine Oberfläche eines zu inspizierenden Wafers einfällt, und eine Bilderfassungseinrichtung zum Erfassen eines Bildes der Oberfläche in einer Dunkelfeld-Anordnung. Die Wafer-Inspektionsvorrichtung zeichnet sich dadurch aus, dass zumindest eine Umlenkeinrichtung vorgesehen ist, um einen zugeordneten Beleuchtungs-Lichtstrahl auf die Oberfläche des Wafers umzulenken.