紫外辐射光清洗机

摘要

一种紫外辐射光清洗机，是用于对需要精细加工的高科技产品各类基片(芯片)表面粘附的有机物进行原子级洁净度清洗的工艺加工设备，它是由新型光源照射系统、齿轮轴杆式工件传动系统、水冷与风冷复合型冷却系统和多传感器控制系统等部分组成的新一代紫外辐射光清洗设备，具有自动化程度高，工作稳定可靠，清洗效果好、效率高，控制使用灵活方便、人机界面友好的特点。

主权项

1、一种紫外辐射光清洗机，是用于对各类基片(芯片)表面粘附的有机物进行原子级清洗的工艺加工设备，其特征在于它是由新型光源照射系统、齿轮轴杆式传动系统、水冷风冷复合型冷却系统和多传感器控制系统等部分组成的新一代紫外辐射光清洗设备，独特的设计措施(引入冷点，水冷，多传感器监测、控制等)，保证了紫外辐射光源发出的用于光敏(即撕破有机化合物分子链)的紫外辐射光(253.7nm)和将氧气激发成臭氧的紫外辐射光(184.9nm)两者的强度以及光照舱内的臭氧浓度等均能有效地控制到优化的状态，使本清洗机具有工作稳定可靠，清洗效果好、效率高，控制使用灵活方便、人机界面友好的特点。