发明名称 | 光纤纳米尖端的加工方法 | ||
摘要 | 一种光纤纳米尖端的加工方法属于微细加工技术领域。本发明采用光纤端面微细加工方法在光纤端面喷涂光刻胶形成均匀胶层并完成前烘后,用带自对准的掩膜板对光刻胶进行曝光、显影,然后沉积用作氢氟酸腐蚀掩膜的掩膜层,将沉积掩膜后的光纤端部浸入氢氟酸腐蚀液,利用湿法腐蚀的钻蚀效应得到光纤端部纳米尖端结构。本发明具有实质性特点和显著进步,本发明腐蚀出的尖端尺寸与锥度仅仅取决于钻蚀,对湿法腐蚀而言,钻蚀的形貌主要决定于待腐蚀的材料,因此该光纤端部纳米尖端的制备方法不仅受环境因素的影响小,而且不同模式的光纤腐蚀得到的尖端形貌一致性好。 | ||
申请公布号 | CN1186653C | 申请公布日期 | 2005.01.26 |
申请号 | CN02137257.8 | 申请日期 | 2002.09.29 |
申请人 | 上海交通大学 | 发明人 | 朱军;李以贵 |
分类号 | G02B6/136;G12B21/06 | 主分类号 | G02B6/136 |
代理机构 | 上海交达专利事务所 | 代理人 | 王锡麟 |
主权项 | 1、一种光纤纳米尖端的加工方法,其特征在于:采用光纤端面微细加工方法在光纤端面喷涂光刻胶形成均匀胶层并完成前烘后,用带自对准的掩膜板对光刻胶进行曝光、显影,然后沉积用作氢氟酸腐蚀掩膜的掩膜层,将沉积掩膜后的光纤端部浸入氢氟酸腐蚀液,利用湿法腐蚀的钻蚀效应得到光纤端部纳米尖端结构。 | ||
地址 | 200030上海市华山路1954号 |