| 发明名称 | 氟化的硅－聚合物和包含该聚合物的光刻胶 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种包括含硅聚合物的光成像组合物，该含硅聚合物的氟原子和硅原子具有特定的比率。本发明优选的光刻胶有增强的抗等离子蚀刻性。 | ||
| 申请公布号 | CN1570763A | 申请公布日期 | 2005.01.26 |
| 申请号 | CN200410064070.X | 申请日期 | 2004.02.23 |
| 申请人 | 罗姆和哈斯电子材料有限责任公司 | 发明人 | G·G·巴克雷;S·卡纳噶萨巴帕瑟;G·泊勒斯 |
| 分类号 | G03F7/004;G03F7/075 | 主分类号 | G03F7/004 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 任宗华 |
| 主权项 | 1.一种光成像组合物，包括光活性成分和聚合物成分，聚合物成分包括含有硅原子和硅烷醇基的氟化的聚合物，其中聚合物的氟原子与硅原子的比率约为3或更小。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞 | ||