| 发明名称 | 光干涉式反射面板及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种光干涉式反射面板及其制造方法，其步骤为：于一基板表面先制作支撑层，再依序施作第一导体暨光学薄膜层叠、间隙层及第二导体层等，最后将间隙层去除后，即在基板上完成光干涉调节器的制作；在前述制程步骤中，因在第一导体暨光学薄膜层叠施作前即完成支撑层，故制作支撑层时，无须经过精密的背面曝光(Back－side expose)步骤，具有简化制程、提升制造效率的优点。 | ||
| 申请公布号 | CN1570746A | 申请公布日期 | 2005.01.26 |
| 申请号 | CN03178766.5 | 申请日期 | 2003.07.18 |
| 申请人 | 元太科技工业股份有限公司 | 发明人 | 林文坚;蔡熊光 |
| 分类号 | G02F1/21;G02F1/1335 | 主分类号 | G02F1/21 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 陈肖梅;文琦 |
| 主权项 | 1.一种光干涉式反射面板的制造方法，其特征在于，于一基板表面先行制作支撑层，再依序施作第一导体暨光学薄膜层叠、间隙层及第二导体层等，又于第二导体层完成后再将间隙层去除，而在反射面板上完成光干涉调节器的制作。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹市新竹科学工业园区力行一路3号 | ||