发明名称 |
METHOD FOR EVALUATING REPRODUCED IMAGES OF WAFERS |
摘要 |
<p>Es ist ein Verfahren zur Bewertung von aufgenommenen Bildern von Wafern offenbart. Dem Aufnehmen des Bildes mindestens eines Referenzwafers schliesst sich das Ermitteln und Darstellen der radialen Verteilung der Messwerte des Referenzwafers als eine radiale Homogenitätsfunktion auf einem Userinterface an. Eines radial abhängiges Empfindlichkeitsprofil wird unter Berücksichtigung der gemessenen radialen Homogenitätsfunklion des Referenzwafers verändert. Mindestens ein Parameter des Empfindlichkeitsprofils wird variiert, wodurch ein erlerntes Empfindlichkeitsprofil visuell aus dem Vergleich mit der radialen Homogenitätsfunktion bestimmt wird.</p> |
申请公布号 |
WO2005006080(A1) |
申请公布日期 |
2005.01.20 |
申请号 |
WO2004EP50758 |
申请日期 |
2004.05.11 |
申请人 |
LEICA MICROSYSTEMS SEMICONDUCTOR GMBH;MICHELSSON, DETLEF |
发明人 |
MICHELSSON, DETLEF |
分类号 |
G01N21/95;G03F7/20;(IPC1-7):G03F7/20 |
主分类号 |
G01N21/95 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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