| 摘要 |
1. Инициирующий элемент с полупроводниковым мостиком, который содержитнеэлектропроводную несущую подложку;полупроводниковый материал, размещенный на подложке; идва электропроводных участка, находящихся в контакте с полупроводниковым материалом и имеющих мостик из полупроводникового материала ПМ, простирающийся между ними, причем ПМ обладает электросопротивлением не менее 50 Ом.2. Элемент по п.1, в котором ПМ имеет объем в диапазоне от приблизительно 13160 мкмдо приблизительно 600000 мкм.3. Элемент по п.2, в котором ПМ имеет толщину около 2 мкм.4. Элемент по п.1, 2 или 3, в котором отношение длины к ширине ПМ находится в диапазоне от приблизительно 1:2 до 1:4.5. Элемент по п.1, 2 или 3, в котором ПМ имеет объем около 76000 мкм.6. Блок инициатора, который содержитнеэлектропроводную подложкудва соединительных вывода, установленных на подложке; иинициирующий элемент с полупроводниковым мостиком по п.1, 2, 3 или 4, установленный на подложке;и в котором каждый соединительный вывод имеет электрическую связь с проводящим участком на полупроводниковом элементе с мостиком.7. Блок инициатора по п.6, который содержит ПМ объемом около 76000 мкм.8. В детонаторе, состоящем из кожуха, рабочего заряда, находящегося в кожухе и узла инициатора для инициирования рабочего заряда усовершенствование заключается в том, что узел инициатора содержит блок инициатора, описанный в п.6.9. Детонатор по п.8, в котором ПМ имеет объем около 76000 мкм.10. Детонатор по п.6, который содержит также запальный заряд, размещенный в кожухе между узлом инициатора и рабочим зарядом.11. Детонатор по п.10, который содержит нечувствительный к статическому электричеству запальный заряд. |
