发明名称 |
Optisches Sicherheitselement |
摘要 |
Die Erfindung betrifft ein optisches Sicherheitselement mit einer Substratschicht, in die in einem Flächenbereich (2) bereichsweise eine erste Mikrostruktur zur Erzeugung eines ersten, optisch erkennbaren Effektes abgeformt ist. Der Flächenbereich (2) ist in mikroskopisch feine Musterbereiche (21 bis 40) und einen Hintergrundbereich (20) geteilt. Die erste Mikrostruktur ist in den Musterbereichen (21 bis 40) aber nicht in dem Hintergrundbereich (20) abgeformt. Die mikroskopisch feinen Musterbereiche (21 bis 40) in dem Flächenbereich (2) sind in Form eines MoirE-Musters angeordnet, in das eine mittels eines zugeordneten Verifizierungselements auswertbare versteckte Information als Sicherheitsmerkmal codiert ist. Die mikroskopisch feinen Musterbereiche (21 bis 40) sind weiter gemäß einer Substrukturierungs-Funktion substrukturiert, die eine als weiteres Sicherheitsmerkmal dienende mikroskopische Substrukturierung des Moirè-Musters beschreibt.
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申请公布号 |
DE10328760(A1) |
申请公布日期 |
2005.01.20 |
申请号 |
DE2003128760 |
申请日期 |
2003.06.25 |
申请人 |
OVD KINEGRAM AG, ZUG |
发明人 |
STAUB, RENE;TOMPKIN, ROBERT WAYNE;SCHILLING, ANDREAS |
分类号 |
B42D15/00;B42D15/10;B44F1/12;G02B;G02B5/32;G02B27/44;G02B27/60;G06K19/16;(IPC1-7):G02B27/60 |
主分类号 |
B42D15/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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