| 摘要 |
<p>Halter für flache Werkstücke, insbesondere Halbleiterwafer zum chemischmechanischen en Polieren, der mit einer vertikalen Antriebsspindel gekoppelt ist, mit einem kreisförmigen Gehäuse, das einen Deckenabschnitt und eine Seitenwand (12) aufweist, einem Rückhaltering (26, 32) der zumindest den unteren Teil der Seitenwand bildet, einer Halteplatte (16) an der Unterseite des Gehäuses aus steifem Material, die mit der Spinde (22) gekoppelt und eine Ober- und eine Unterseite aufweist, einer flexiblen, relativ dünnen Membran (36) die an der Unterseite der Halteplatte angebracht ist und mit dieser mehr als drei ringförmige, konzentrisch zur Spindelachse angeordnete Kammern bildet, mindestens einem ersten Kanal (46) in der Antriebsspindel (22), der am oberen Ende mit einer geregelten Druckquelle oder mit Vakuum verbindbar und in das Gehäuse hineingeführt ist, mehreren elektrisch steuerbaren Schaltventilen (44, 108) im Gehäuse, die mit dem ersten Kanal und über Bohrungen in der Halteplatte (16) mit jeweils einer Kammer verbunden sind und über elektrische Steuerleitungen und einen Drehübertrager (54) mit einer externen elektrischen Steuervorrichtung verbunden sind zur Erzeugung eines in radialer Richtung unterschiedlichen Druckprofils während des Polierprozesses.</p> |
