发明名称 HIGH-PURITY FERROMAGNETIC SPUTTER TARGETS
摘要
申请公布号 KR20050007566(A) 申请公布日期 2005.01.19
申请号 KR20047019280 申请日期 2003.05.13
申请人 发明人
分类号 H01F1/14;C21D6/04;C22F1/00;C22F1/10;C23C14/34;H01F41/18 主分类号 H01F1/14
代理机构 代理人
主权项
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