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经营范围
发明名称
HIGH-PURITY FERROMAGNETIC SPUTTER TARGETS
摘要
申请公布号
KR20050007566(A)
申请公布日期
2005.01.19
申请号
KR20047019280
申请日期
2003.05.13
申请人
发明人
分类号
H01F1/14;C21D6/04;C22F1/00;C22F1/10;C23C14/34;H01F41/18
主分类号
H01F1/14
代理机构
代理人
主权项
地址
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