发明名称 |
等离子体电解氧化制备黑色陶瓷氧化膜的方法及其制品 |
摘要 |
本发明提供了一种等离子体电解氧化制备黑色陶瓷氧化膜的方法及其制品,其方法包括通过使作为阳极的金属基体表面等离子弧光放电,进行电解氧化烧结,生成具有陶瓷结构的膜层,所用电解质溶液以单体磷酸盐为主盐,还含有一种或一种以上的物质为添加剂,弧光放电电压为100~400V,放电时间为5~12min,电流密度为1.5~10A·dm<SUP>-2</SUP>,电解质溶液温度为10~50℃,电解液的pH值为3~12;可制得黑色陶瓷氧化膜层。本发明所制得的产品的陶瓷膜层均匀性好,表面光洁,与基体结合强度高,硬度高,抗热冲击、电绝缘性及耐蚀性都佳。本发明的方法可适用于各种尺寸、形状、结构的基体工件的表面处理。 |
申请公布号 |
CN1566408A |
申请公布日期 |
2005.01.19 |
申请号 |
CN03139648.8 |
申请日期 |
2003.06.25 |
申请人 |
王振波 |
发明人 |
王振波 |
分类号 |
C25D11/02 |
主分类号 |
C25D11/02 |
代理机构 |
珠海知博专利事务所 |
代理人 |
田春景 |
主权项 |
1、一种等离子体电解氧化制备黑色陶瓷氧化膜的方法,其特征在于该方法是通过使作为阳极的金属基体表面等离子弧光放电,进行电解氧化烧结,在金属基体表面生成具有陶瓷结构的膜层,所用电解质溶液以单体磷酸盐为主盐,还含有一种或一种以上的物质为添加剂。 |
地址 |
150001黑龙江省哈尔滨市哈尔滨工业大学学生工作部 |