发明名称 改性红外探测材料-非晶SiGe薄膜的制备方法
摘要 改性红外探测材料一非晶SiGe薄膜的制备方法。本发明属于红外热探测材料的制备方法,特别是对非晶SiGe合金薄膜优化、改性的方法。本发明包含以下两个重要步骤,即首先在超高真空状态下采用电子束蒸发镀膜方法制备α-SiGe薄膜,然后利用离子注入方法对α-SiGe薄膜进行改性。本方法可获得具有高电阻温度系数(TCR)的α-SiGe薄膜红外热探测材料,提高生产效率,降低了生产成本,可解决常规技术生长非晶GeSi薄膜时由于光放电,等离子体对已沉积的薄膜会破坏,使材料变坏等不足。
申请公布号 CN1567598A 申请公布日期 2005.01.19
申请号 CN03135366.5 申请日期 2003.07.04
申请人 云南大学 发明人 杨宇;王光科;杨瑞东;马铁英;刘焕林;陈刚
分类号 H01L31/028;H01L31/20 主分类号 H01L31/028
代理机构 昆明正原专利代理有限责任公司 代理人 赵云
主权项 1、改性红外探测材料—非晶SiGe薄膜的制备方法,其特征是首先在真空状态下采用电子束蒸发法制备α-SiGe薄膜,然后利用离子束注入方法对α-SiGe薄膜进行改性。
地址 650091云南省昆明市翠湖北路2号云南大学材料科学与工程系