发明名称 | 多重曝光方法 | ||
摘要 | 一种多重曝光方法,包括:在光致抗蚀剂层形成具有第一对边组及大于第一对边组的第二对边组的对应于矩形图案的矩形区域;在光致抗蚀剂层中的第一曝光区域执行第一曝光制作工艺,上述第一曝光区域与上述矩形区域以第一对边组的延伸方向为边界;分别在光致抗蚀剂层中的第二曝光区域与第三曝光区域执行第二曝光制作工艺及第三曝光制作工艺,第二曝光区域及第三曝光区域与矩形区域以第二对边组的延伸方向为边界;及在第一曝光区域、第二曝光区域及第三曝光区域执行显影制作工艺,使矩形图案显现于基底,由此提高图案转移的分辨率。 | ||
申请公布号 | CN1185550C | 申请公布日期 | 2005.01.19 |
申请号 | CN01117029.8 | 申请日期 | 2001.04.19 |
申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 连日昌 |
分类号 | G03F7/20 | 主分类号 | G03F7/20 |
代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陈小雯 |
主权项 | 1.一种多重曝光方法,适用于一光致抗蚀剂层限定一矩形图案,包括下列步骤:在上述光致抗蚀剂层形成具有第一对边组及大于上述第一对边组的第二对边组的对应于上述矩形图案的矩形区域;在上述光致抗蚀剂层中的第一曝光区域执行第一曝光制作工艺,上述第一曝光区域与上述矩形区域以第一对边组的延伸方向为边界;分别在上述光致抗蚀剂层中的第二曝光区域与第三曝光区域执行第二曝光制作工艺及第三曝光制作工艺,上述第二曝光区域及第三曝光区域与上述矩形区域以第二对边组的延伸方向为边界;及在上述第一曝光区域、第二曝光区域及第三曝光区域执行显影制作工艺,使得上述矩形图案显现于基底。 | ||
地址 | 台湾省桃园县 |