| 发明名称 | 钕铁硼永磁体的焦磷酸盐脉冲电镀铜方法 | ||
| 摘要 | 一种钕铁硼永磁体的焦磷酸盐脉冲电镀铜方法，其电镀铜工艺及电镀液配方如下：电镀液配方，硫酸铜60－100克/升；焦磷酸钾200－400克/升氨水0.2－3毫升/升；光亮剂0.2－3毫升/升；润湿剂1－5毫升/升；铜离子10－25克/升，焦磷酸根∶铜离子比值6.5－8.8∶1。电镀铜工艺参数，温度38－50摄氏度；pH值7－9；平均电流密度0.2－1.5安培/平方分米；电流波形为方波；电流脉冲宽度，导通0.1－2.5毫秒，关断0.2－5.5毫秒。该工艺用无氰镀铜溶液，无毒、低污染、高效率、镀层好、价格低。 | ||
| 申请公布号 | CN1566406A | 申请公布日期 | 2005.01.19 |
| 申请号 | CN03130244.0 | 申请日期 | 2003.06.24 |
| 申请人 | 天津市磁强技术发展有限公司 | 发明人 | 刘伟 |
| 分类号 | C25D3/38;C25D5/18 | 主分类号 | C25D3/38 |
| 代理机构 | 天津才智专利商标代理有限公司 | 代理人 | 刘东华 |
| 主权项 | 1.一种钕铁硼永磁体的焦磷酸盐脉冲电镀铜方法，其特征是：焦磷酸盐脉冲电源电镀铜工艺参数及电镀液配方如下：电镀液配方硫酸铜 60-100克/升焦磷酸钾 200-400克/升氨水 0.2-3毫升/升光亮剂 0.2-3毫升/升润湿剂 1-5毫升/升铜离子 10-25克/升焦磷酸根：铜离子比值 6.5-8.8∶1电镀铜工艺参数温度 38-50摄氏度PH值 7-9平均电流密度 0.2-1.5安培/平方分米电流波形 方波电流脉冲宽度 导通0.1-2.5毫秒 关断0.2-5.5毫秒 | ||
| 地址 | 300251天津市金钟河大街赵沽里道11号 | ||