发明名称 沈积装置与方法
摘要 一种非对称性交流电压(最好为40 KHz),其系设置在一对成同轴(最好为平截柱形)之关系的靶电极中间,藉以(1)在其基板表面上,沈积一厚度均匀之材料;(2)自其靶电极和其他组件之表面,清除介电质材料;(3)提供其靶电极之单一点火,以及消除其后继之点火;以及(4)藉由使用来自一电浆放电之低能量(“冷”)电子,来产生一低能量电流,而降低其基板之温度。此种非对称性,可能起因于其交流半周期中之电压与另一半周期中之电压间的波幅差异。其一第二交流电压(最好为射频),可调变其非对称性交流电压,藉以提供一平滑之电浆点火。其施加至每一靶电极之不同电压波幅,系有助于在其基板之表面上的不同位置处,提供一固定之沈积厚度。
申请公布号 TW200502426 申请公布日期 2005.01.16
申请号 TW093114246 申请日期 2004.05.20
申请人 史派特制片股份有限公司 发明人 雷普泰夫;费美斯格
分类号 C23C16/505 主分类号 C23C16/505
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 美国