发明名称 用于光阻之显像剂组成物及用于形成光阻图案之方法
摘要 提供一种能够改良光阻图案的尺寸控制性之用于光阻的显像剂组成物。该用于光阻的显像剂组成物包括一有机季铵硷作为主成分,该显像剂组成物进一步包括一由下面通式(I)所表的阴离子界面活性剂;与SO4^2–,该SO4^2–的含量为从0.01至1质量%093116563-p01.bmp于该式中,R1和R2中至少一者表有5至18个碳原子的烷基或烷氧基且另一者表氢原子,或有5至18个碳原子的烷基或烷氧基,且R3、R4和R5中至少一者表一磺酸铵基或经磺酸取代铵基且其他者表氢原子、磺酸铵基或经磺酸取代铵基。093116563-p01.bmp
申请公布号 TW200502686 申请公布日期 2005.01.16
申请号 TW093116563 申请日期 2004.06.09
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 鹫尾泰史;斋藤宏二
分类号 G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本