正型光阻组成物及使用其形成光阻图型之方法

摘要

本发明系提供在蚀刻后与显影后之一方，较佳为两方中，可抑制光阻图型所产生表面皲裂之发生之光阻组成物。含有以下一般式(1)～(4)093119856-p01.bmp(式中，R为氢原子或甲基，m为0或1。)所示之含有内酯之构成单元之至少一个(a1)因酸之作用使硷可溶性增大之树脂成分(A)与，因曝光使酸产生之酸产生剂成分(B)与，及有机溶剂(C)，之正型光阻组成物，使用此组成物以形成光阻图型。093119856-p02.bmp