发明名称 形成于积体电路载板电性连接垫之电容结构及其制法
摘要 一种形成于积体电路载板电性连接垫之电容结构及其制法,首先,提供至少一表面具有电路层之基板,该基板可为一完成前处理之具有电路层之基板,俾于该基板表面敷覆一拒焊剂层,该拒焊剂层并于基板表面形成复数个可充填入电容材料之开孔,复于此些开孔上形成一电性连接垫以覆盖此些开孔,以形成一内嵌有电容元件之基板,本发明另可于基板表面预先形成一绝缘层,该绝缘层亦形成有复数个用以充填入电容材料之开孔,之后,于此些开孔上形成一电性连接垫后,可再敷覆一拒焊剂层(Solder mask),该拒焊剂层并形成有复数个开孔,以令电性连接垫得以显露于拒焊剂层之开孔,此些开孔系可大于或小于电性连接垫之大小,俾使电性连接垫可供与晶片或电路板做为电性连接之介面,藉以减少晶片与电容元件间之电性传输距离,进而增加基板表面之布局空间。
申请公布号 TW200503146 申请公布日期 2005.01.16
申请号 TW092118042 申请日期 2003.07.02
申请人 全懋精密科技股份有限公司 发明人 许诗滨
分类号 H01L21/70 主分类号 H01L21/70
代理机构 代理人 陈昭诚
主权项
地址 新竹市科学园区力行路六号