| 摘要 |
本发明提供一种基板处理系统，该系统可有效率地利用必须用于基板之表面处理的反应物质或载体气体，并简化用于气体转换的设备，且能达成能源的节省。此系统包括用以供应含有反应物质之制程气体的气体供应源(12)、连接至该气体供应源(12)以保存制程气体的储存槽(14)、用以使放置于其中的基板暴露于制程气体的反应器(10)、用以将该反应器(10)内的制程气体导入该储存槽(14)中的第一循环管路(38)、用以将该储存槽(14)中至少部分的制程气体导入该反应器(10)中的第二循环管路(42)、以及配置于该第二循环管路(42)而用以调节欲导入至该反应器(10)中之制程气体量的流量调节阀(44)。 |
