发明名称 抹除及程式化有机记忆体装置以及运作和制造方法
摘要 本发明揭示一有机记忆体单元(100,1300,1500),该记忆体单元由两个电极(104,110,1304,1306,1502,1504)及位于该两个电极之间的选择性导电媒介(106/108,1308)组成。该选择性导电媒介(106/108,1308)包括一有机层(108,300,400,500)及被动层(106,200)。通过施加偏置电压,该选择性导电媒介被程式化至一记忆体单元之理想的阻抗状态(1301,1302,1303)。该理想的阻抗状态(1301,1302,1303)代表一位元或多位元信息以及该记忆体单元(100,1300,1500)不需要持续的能量及刷新周期以维持该理想的阻抗状态。而且为了决定该记忆体单元(100,1300,1500)的阻抗状态(1301,1302,1303),可藉由施加一电流及读取该媒介(106/108,1308)的阻抗来读取该选择性导电媒介。本发明还揭示制造、使用该有机记忆体装置/单元(100,1300,1500)之方法,以及例如像包括该有机记忆体装置/单元(100,1300,1500)之电脑的装置。
申请公布号 TW200503182 申请公布日期 2005.01.16
申请号 TW093111362 申请日期 2004.04.23
申请人 高级微装置公司 发明人 蓝志达;比尔 柯林;凡布什柯克
分类号 H01L21/8239 主分类号 H01L21/8239
代理机构 代理人 洪武雄;陈昭诚
主权项
地址 美国