浅沟渠隔离结构的制造方法与图案化的方法

摘要

一种浅沟渠隔离结构的制造方法，此方法系先在基底上系序形成垫氧化层与罩幕层，然后在罩幕层上形成图案化光阻层。接着，进行第一蚀刻制程以在垫氧化层与罩幕层中形成开口，且此开口裸露出基底之部分表面，之后剥除图案化光阻层。继之，利用含臭氧(ozone)之清洗液进行清洗步骤，接着，进行第二蚀刻制程以在基底中形成沟渠，之后，在沟渠内填入绝缘层，然后移除垫氧化层与罩幕层。由于利用含臭氧之清洗液来洁净基底(或晶圆)表面，所以可以解决知光阻残留物残存于基底(或晶圆)表面的问题。