晶圆托架盖

摘要

本发明揭露出一种半导体晶圆用的托架盖。在材料沈积制程室中，该晶圆系覆盖托架盖地放置，而该托架盖则定义出一外围沟渠于其中。在材料沈积制程内，沈积的材料系形成在该沟渠内，且避免材料累积于邻近该晶圆外围边缘上。