高纯度磷酸及其制造方法

摘要

本发明之高纯度磷酸，其特征在于：作为在H3PO4之浓度换算成为85重量％时之不纯物含量，系Sb成为200ppb以下并且硫化物离子成为200ppb以下。本发明之高纯度磷酸系有用于成为：具有氮化矽膜之半导体元件之蚀刻液、具有氧化铝膜之液晶显示器面板之蚀刻液、金属铝蚀刻液、陶瓷用氧化铝蚀刻液、光纤玻璃用磷酸玻璃原料以及食品添加物等。