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发明名称
湿润阻障层的制造方法
摘要
一种湿润阻障层的制造方法,适用于插塞制程之上,系在一介电层内的开口以离子金属电浆沉积钛金属层,以一原位电浆对湿润阻障层进行处理,接着,其以沉积一氮化钛层于钛金属层之上而形成一湿润阻障层。根据本发明所制造的湿润阻障层可降低插塞之阻抗。
申请公布号
TW200503150
申请公布日期
2005.01.16
申请号
TW092118526
申请日期
2003.07.07
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
蔡建欣;周友华;骆则宏;曾吉祯;张伟;杨荣成
分类号
H01L21/76
主分类号
H01L21/76
代理机构
代理人
蔡坤财
主权项
地址
新竹科学工业园区新竹县园区三路一二一号
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