使用量测之基础光谱及/或基于已获得之光谱之薄膜之非破坏性特性化

摘要

本发明系提供使用比较法(例如，代入法)比较元素及／或化学物种之量测峰形(例如，所欲监测之特定方法之先前量测之Si峰形)与己收集之光谱资料(例如，使用非线性最小平方代入运算法)，而用于膜之特性化(例如，矽氧氮化物膜之厚度测定)。此外，本发明提供使用收集之光谱资料而用于膜之特性化(例如，矽氧氮化物膜之厚度测定)。例如，可将已获得之光谱累积地积分，而且可使用所积分光谱之几何性质测定成分浓度资讯。膜之厚度测量可基于此成分浓度资讯而提供。