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发明名称
利用活性气体自基板去除目标层之方法与设备
摘要
一种用于自一基板表面去除一层之系统与方法。该方法包括提供至少一封闭输送包,其中该封闭输送包含有至少某种活性气体。将至少一封闭输送包施加于该层上,且该层为一化学活性层;该封闭输送包于该化学活性层上破裂,且该破裂释放出该活性气体与一反应诱导剂至该化学活性层上,以促进自该基板表面去除该层之反应。
申请公布号
TW200503097
申请公布日期
2005.01.16
申请号
TW093118573
申请日期
2004.06.25
申请人
兰姆研究公司
发明人
约翰M 德 赖瑞厄斯
分类号
H01L21/304;B08B5/00
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
许峻荣
主权项
地址
美国
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