发明名称 Strukturiertes Halbleiterelement zur Reduzierung von Chargingeffekten
摘要 Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Halbleiterschaltungselement (1) zur Reduzierung von unerwünschten Aufladeeffekten, insbesondere Anschlusselement von Teststrukturen für Halbleiterschaltungen, wobei die Oberfläche (4) des Halbleiterschaltungselements (1) elektrisch von der Rest-Oberfläche (5) des Halbleiterschaltungselements (1) isolierte Leitbahnstrukturen (3) aufweist, und bei dem ausschließlich die Leitbahnstrukturen (3) an nachgeordnete Halbleiterschaltungselemente (8) angeschlossen sind.
申请公布号 DE10328007(A1) 申请公布日期 2005.01.13
申请号 DE20031028007 申请日期 2003.06.21
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 VOLLERTSEN, ROLF-PETER
分类号 H01L23/482;H01L23/485;H01L23/544;H01L23/58;H01L23/62;(IPC1-7):H01L21/66 主分类号 H01L23/482
代理机构 代理人
主权项
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