发明名称 |
先驱体浸渍裂解制备BN/SiO<SUB>2</SUB>复合陶瓷的方法 |
摘要 |
先驱体浸渍裂解制备BN/SiO<SUB>2</SUB>复合陶瓷的方法,它涉及一种陶瓷材料的制备方法。现有的热压烧结方法存在组织呈现定向排列、性能表现为各向异性等缺点。本发明方法包括:a.以B和BN粉末为原料加工成型;b.在一个氮气大气压的气氛中烧结,烧结温度为1500℃~1600℃,保温时间4~5小时,得到多孔氮化硼陶瓷;c.浸渍聚碳硅烷溶液,在抽真空的条件下室温浸渍32~40小时;d.800℃氧化裂解;e.再在1300℃、一个大气压的氮气保护条件下烧结2小时,即得BN/SiO<SUB>2</SUB>复合材料。用本发明的方法制备的BN/SiO<SUB>2</SUB>复合材料组织均匀弥散分布无定向排列,综合性能良好;由于是反应烧结整个过程没有施压,提高了成品率,烧结温度比热压烧结降低300℃~500℃,降低了成本。 |
申请公布号 |
CN1562885A |
申请公布日期 |
2005.01.12 |
申请号 |
CN200410013684.5 |
申请日期 |
2004.04.14 |
申请人 |
哈尔滨工业大学 |
发明人 |
温广武;王静;宋亮 |
分类号 |
C04B35/583;C04B41/84;C04B35/622;C04B35/5835 |
主分类号 |
C04B35/583 |
代理机构 |
哈尔滨市松花江专利商标事务所 |
代理人 |
张伟 |
主权项 |
1、一种先驱体浸渍裂解制备BN/SiO2复合陶瓷的方法,其特征在于它的操作步骤为:a.以粒径为3~5μm的B和BN粉末为原料,按质量比计,B和BN的质量比为(5~20)∶(80~95),按常规工艺混料、造粒、成型;b.然后将密度为1.4~1.6g/cm3的压坯置于烧结炉中,在一个大气压的氮气气氛中烧结,烧结温度为1500~1600℃,保温时间4~5小时,得到多孔的氮化硼陶瓷;c.将多孔的氮化硼陶瓷浸渍先驱体聚碳硅烷溶液,在抽真空条件下室温浸渍32~40小时,干燥后得预制块;d.将密度不超过1.75g/cm3的预制块于800℃条件下在空气炉中氧化裂解,保温时间3~4小时;e.然后在1300℃、一个大气压的氮气保护条件下于真空烧结炉中烧结2小时,即得BN/SiO2复合材料。 |
地址 |
150001黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号 |