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发明名称 A PHOTOLITHOGRAPHY MASK HAVING A SUBRESOLUTION ALIGNMENT MARK WINDOW
摘要
申请公布号 EP1221073(A4) 申请公布日期 2005.01.12
申请号 EP20000963687 申请日期 2000.09.21
申请人 TYCO ELECTRONICS LOGISTICS AG 发明人 DILLEY, JOHN, WILLIAM, LUKE;PICKENS, MARION, WAYNE
分类号 G03F1/08;G03F9/00;H01L21/027;(IPC1-7):G03F9/00;G03F1/14 主分类号 G03F1/08
代理机构 代理人
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