| 主权项 |
1.一种曝光方法,系将曝光用光罩之图案曝光于感 光材之曝光方法,包含有: 使来自曝光用光源之至少部分光源入射至支撑于 支撑机构之前述光罩的入射步骤; 使来自前述光罩之透过光,由与入射至前述光罩之 光入射方向不同的方向入射至支撑于前述支撑机 构之前述感光材,并使前述透过光成像于前述感光 材之成像步骤; 旋转前述支撑机构,使来自前述光源的光得以沿着 周方向变化其入射于前述光罩之照射位置的旋转 步骤; 在前述支撑机构之旋转中,使照射到前述光罩及前 述感光材的光的照射位置得以在前述旋转面内,朝 着与前述周方向不同的方向变化的照射位置变更 步骤。 2.如申请专利范围第1项之方法,其中,前述成像步 骤,包含有:使来自前述光罩之透过光通过多数之 反射镜及至少一个成像透镜,以变更来自前述光罩 之透过光之行进方向,并于前述感光材中成像之步 骤, 而前述照射位置变更步骤,系包含至少移动一个前 述反射镜之步骤。 3.如申请专利范围第2项之方法,其中,移动前述反 射镜之步骤,系包含使前述反射镜朝前述支撑机构 之旋转轴线方向移动之步骤。 4.如申请专利范围第1项之方法,其中,前述照射位 置变更步骤,尚包含有使前述成像透镜与前述反射 镜同时移动之步骤。 5.如申请专利范围第1项之方法,其中,前述成像步 骤,包含有:使来自前述光罩之透过光通过多数之 反射镜及至少一个凹面镜,以变更来自前述光罩之 透过光之行进方向,并于前述感光材中成像之步骤 , 而前述照射位置变更步骤,系包含使前述凹面镜移 动之步骤。 6.如申请专利范围第5项之方法,其中,移动前述凹 面镜之步骤,系包含将前述凹面镜往前述支撑机构 之旋转轴线方向移动之步骤。 7.如申请专利范围第1项之方法,其中,前述光罩与 前述感光材系与该支撑机构之旋转轴线呈对称而 配置在前述支撑机构上。 8.如申请专利范围第1项至第7项中任一项之方法, 其中,前述照射位置变更步骤,系包含使前述光罩 与前述感光材之间的光路长度维持一定而变化前 述照射位置之步骤。 9.一种曝光装置,系使曝光用光罩之图案曝光于感 光材之装置,系包含:支撑机构,系具备有: 以该光罩可接收来自曝光用光源之至少部分光源 的方式支撑前述光罩之第1支撑部;以该感光材可 由与入射至前述光罩之光入射方向不同的方向接 收来自前述光罩之透过光的方式,支撑前述感光材 之第2支撑部, 引导来自前述光罩之透过光成像于前述感光材之 成像光学机构; 旋转前述支撑机构,使来自前述光源的光得以沿着 周方向变化其入射于前述光罩之照射位置的旋转 机构; 使照射到前述光罩及前述感光材的光的照射位置 得以在前述支撑机构之旋转面内,朝着与前述周方 向不同方向变化的照射位置变更机构。 10.如申请专利范围第9项之装置,其中,前述成像光 学机构系包含配置于前述光罩与前述感光材之间 的光路的多数反射镜以及至少一个成像透镜,而前 述照射位置变更机构系包含至少可移动一个前述 反射镜之反射镜移动机构。 11.如申请专利范围第10项之装置,其中,前述反射镜 移动机构系用以使前述反射镜往前述支撑机构之 旋转轴线方向移动。 12.如申请专利范围第11项之装置,其中,前述反射镜 移动机构,可使前述成像透镜与前述反射镜同时移 动。 13.如申请专利范围第9项之装置,其中,前述成像光 学机构,系包含配置于前述光罩与前述感光材之间 的光路的多数的反射镜及至少一个凹面镜,而前述 照射位置变更机构,系包含移动前述凹面镜之凹面 镜移动机构。 14.如申请专利范围第13项之装置,其中,前述凹面镜 移动机构,系包含使前述凹面镜往前述支撑机构之 旋转轴线方向移动之功能。 15.如申请专利范围第9项之装置,其中,前述光罩与 前述感光材系与该支撑机构之旋转轴线呈对称而 配置在前述支撑机构上。 16.如申请专利范围第9项至第15项中任一项之装置, 其中,前述照射位置变更机构,系使前述光罩与前 述感光材之间的光路长度维持一定而变化前述照 射位置。 图式简单说明: 第1图系本发明曝光装置之第1实施例之斜视图。 第2图系第1图所示之曝光装置之支撑机构之平面 图。 第3A及3B图系显示第1图所示之曝光装置之动作之 侧面图。 第4图系显示第1图所示之曝光装置之动作之平面 图。 第5图系显示本发明曝光装置所使用之照射区域之 例的平面图。 第6图系显示本发明曝光装置之支撑机构例的平面 图。 第7图系本发明曝光装置之第2实施例之侧面图。 第8图系本发明曝光装置之第3实施例之侧面图。 |
