发明名称 激光退火装置及其激光退火方法
摘要 本发明是关于一种激光退火装置及其激光退火方。该激光退火装置是适于对一非晶硅薄膜进行激光退火,该非晶硅薄膜是区分为一第一区域以及第一区域以外的一第二区域。该激光退火装置,主要是由一激光光源模组、一分光组件、一第一光罩与一第二光罩所构成。其中激光光源模组提供一激光束,分光组件将该激光束分成一第一激光束与一第二激光束。第一光罩是配置于第一激光束的光路上且位于非晶硅薄膜之前。第二光罩是配置于第二激光束的光路上且位于非晶硅薄膜之前。而且,第一激光束是照射于第一区域,而第二激光束是在第一区域的非晶硅薄膜完成再结晶后接续照射于第二区域。
申请公布号 CN1560907A 申请公布日期 2005.01.05
申请号 CN200410006473.9 申请日期 2004.03.08
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 曹义昌;张志雄
分类号 H01L21/324;H01L21/477;C30B33/02 主分类号 H01L21/324
代理机构 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人 寿宁;张华辉
主权项 1、一种激光退火装置,适于对一非晶硅薄膜进行激光退火,其中该非晶硅薄膜是区分为一第一区域以及该第一区域以外的一第二区域,其特征在于该激光退火装置包括:一激光光源模组,该激光光源模组是提供一激光束;一分光组件,配置于该激光束的光路上,其中该分光组件是将该激光束分成一第一激光束与一第二激光束;一第一光罩,配置于该第一激光束的光路上且位于该非晶硅薄膜之前;以及一第二光罩,配置于该第二激光束的光路上且位于该非晶硅薄膜之前,其中该第一激光束是照射于该第一区域,而该第二激光束是于该第一区域的该非晶硅薄膜完成再结晶后接续照射在该第二区域。
地址 中国台湾